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  • RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射 X 射線熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 310Fab,采用轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計的入射 X 射線單色器。過渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測量方法8 原子/厘米2達(dá)到水平。 在封閉 X 射線管測量時間的 1/3 內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)相同的精度,從而實(shí)現(xiàn)高通量。 查看詳情
  • RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射X 射線熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射X 射線熒光光譜儀TXRF 3760,對晶圓表面的污染進(jìn)行無損、非接觸式和高靈敏度分析轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計的入射 X 射線單色器過渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測量方法8 原子/厘米2達(dá)到水平。 在封閉 X 射線管測量時間的 1/3 內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)相同的精度,從而實(shí)現(xiàn)高通量 查看詳情
  • RIGAKU日本理學(xué)X 射線光譜儀WaferX 310 RIGAKU日本理學(xué)X 射線光譜儀WaferX 310 WD-XRF ,這是一種波長色散 X 射線熒光光譜儀 (WD-XRF),可以無損、非接觸地同時分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分 查看詳情
  • RIGAKU日本理學(xué)晶圓磁盤分析儀 RIGAKU日本理學(xué)晶圓磁盤分析儀3650,這是一種波長色散 X 射線熒光光譜儀 (WD-XRF),可以以非破壞性、非接觸的方式同時分析*大 ~200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分 查看詳情
  • RIGAKU理學(xué)分析濺射靶材成分光譜儀 RIGAKU理學(xué)分析濺射靶材成分光譜儀AZX400,將 Be~U 中的所有元素(包括 B、C、N 和 O)包含在一個單元中,這些元素是重要的半導(dǎo)體材料 查看詳情
  • RIGAKU日本理學(xué) X 射線熒光光譜儀 RIGAKU日本理學(xué) X 射線熒光光譜儀AZX400,將 Be~U 中的所有元素(包括 B、C、N 和 O)包含在一個單元中,這些元素是重要的半導(dǎo)體材料 查看詳情
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